電子級多晶（jīng）矽還原爐鍾罩內部清（qīng）洗要求及清洗方式
時間：2024-11-25 15:41:00作者：LeeZhou來源：TXVLOG糖心短视频网站潔清潔設備
多晶矽（guī）分（fèn）太陽能級和電子級兩大類，電子級多晶矽是目前最高純度等（děng）級的多晶矽產品，主要作為矽（guī）片及芯片等生產的原材料，是（shì）集成電路產業的核心關（guān）鍵基礎原（yuán）料。電子級多晶矽（guī）的純度（dù）要求（qiú）則為99.9999999%~99.999999999%，即（9N到11N），電子級多晶矽的高純（chún）度要求相（xiàng）當苛刻，如5000噸的（de）電子級多晶矽中總的雜質含量僅相當於一枚1元硬幣的重量。
由於多晶（jīng）矽純度會嚴重影響到（dào）單晶矽（guī）拉製環節，所以電子級多（duō）晶矽雜（zá）質含量（liàng）要求更（gèng）為苛刻，電子級多晶矽生產廠家在工（gōng）藝（yì）流程、設備維護（hù）、產品運輸等多（duō）方麵進行提（tí）升，以提高企業的競爭力度。而在電子級多（duō）晶矽改良西門子法（fǎ）生（shēng）產工藝中，還（hái）原爐是整個多晶矽生產係統的“心髒”部件（jiàn），也（yě）是影響實際產量最核心的工藝環節（jiē），生產出來的多晶矽質量的優劣取決於它，因（yīn）此還原爐鍾罩內壁的清（qīng）潔度直接影響最終產品的質量（liàng），同（tóng）時，作為多晶矽的生產電耗比重首位的熱沉積反應（yīng）器，其內壁的光潔可以有效降低還（hái）原電耗（hào），所以在電子（zǐ）級多晶矽生產（chǎn）過程中，多晶矽還原爐鍾罩內部清潔（jié）至關重（chóng）要。
一、電子級多晶矽還原爐鍾罩清洗（xǐ）要求
1、潔淨度（dù）要求
清洗過程中（zhōng）要確保潔淨度達到電子級別的標準，這通常意味著要徹底去（qù）除鍾罩表麵的所（suǒ）有塵埃、汙垢和（hé）任何（hé）可能對矽片產生負麵影響的雜質（zhì）。
2、避免化學汙染
清（qīng）洗過程中使用的化學（xué）品必須是高純度的，並且不得留下任（rèn）何殘留（liú）物。使用去離子水（shuǐ）（DI水）等高純度水源（yuán）是（shì）必要的，以避免引入任何額（é）外的（de）離子或雜質。
3、溫度（dù）控製
清洗過程中的溫度應（yīng）該（gāi）在適當的範圍（wéi）內，以（yǐ）確保清洗（xǐ）劑的有效性，並防止對設備產生不良影響。同時，溫度控製也有助於防止在清洗過程中產生的水汽對設備腐蝕。
4、機械（xiè）清洗
對鍾罩表麵的機械清洗應該是適用而徹底的，以在不傷害其內部表麵結構的情況下，去除（chú）附著在表麵的（de）任何顆粒或雜質。
5、避免靜電
電子級多晶矽（guī）生產對（duì）靜電敏感，在清洗過程中（zhōng）要（yào）注意避免靜電的產生。
6、實時監測和控（kòng）製
清（qīng）洗過程中要實時監測清洗效果，確保達（dá）到規定的（de）潔淨度標準。
7、設（shè）備保養
清洗設備本身也需要定期保養，以確保其（qí）正常運（yùn）行且不會引入額外（wài）的汙染。
8、符（fú）合行業標準
清洗過程應符合相關的行業標準和規範（fàn），以確保清洗的效果（guǒ）和可重複性（xìng）。
在進行電子級多晶矽還原爐鍾罩清洗（xǐ）時，以上要求都是（shì）為（wéi）了確保最終生產的矽片符（fú）合高純度和高質量的要求。這（zhè）些要求有助於避免因為鍾罩表麵殘留的汙染物而引入缺陷，從而影響電子級（jí）多晶矽矽片的生（shēng）產質量，應對於以上的清洗（xǐ）要求，普（pǔ）通的還原爐鍾罩清洗方式處理速度慢、清洗質量不均勻，且整（zhěng）體自動化程（chéng）度低；因（yīn）此需要一種高（gāo）效、快速、自動化程度高的多晶（jīng）矽還原爐鍾罩內壁清洗方式。
二、電子級多晶（jīng）矽（guī）還原爐（lú）鍾罩高效清洗方式
德（dé）高潔高（gāo）壓水電子級多晶矽還原爐鍾（zhōng）罩清洗係統，由高壓熱水（shuǐ）清洗係統、熱風淨化（huà）烘幹係統、控（kòng）製係統等組成，係統操（cāo）作簡單，自動化程度高（gāo），整個（gè）清洗工藝（yì）包含：還原爐鍾罩到（dào）位（wèi）→預（yù）清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水衝洗→淨化熱空（kōng）氣幹燥→常（cháng）溫（wēn）幹燥→鍾罩吊走，全程僅需人工輔助作業，解決（jué）傳統人工（gōng）清洗（xǐ）不安全、不環保、清洗效果差、自動化程度低、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動控製係統，能實現（xiàn）對還原爐鍾罩的自動清洗和烘（hōng）幹，清洗烘幹時間、溫（wēn）度、清洗、漂洗等工藝（yì）參數（shù）可以根據需要自行調整設定，同（tóng）時（shí）具有半自動或（huò）手動功能。一次吊裝在一個工作台上完成（chéng）全部清（qīng）洗、烘幹過程，可（kě）實現遠程對樓下設備的控製和主要參數監控。
全密（mì）閉式清洗烘幹係統，清洗（xǐ）時采用高壓水三維立體清洗技（jì）術（shù），以水力（lì）自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表麵的水（shuǐ）力掃射，實現（xiàn）內部無死角清洗，以水為清洗介質可有效避免（miǎn）靜電的（de）產生，清洗後旋轉和升降清洗吹（chuī）幹（gàn）執行機構，根據（jù）還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位（wèi）置進行準確定位，可自動（dòng）切換不同清洗液及吹幹，通過控（kòng）製係統可對清洗、吹幹（gàn）時間等進行調整，清洗時隻需一（yī）鍵操作即可，操作簡單方便。
在整個還原爐的清洗過程中，清洗、幹燥中筒（tǒng）內形（xíng）成微負壓狀態（tài），防（fáng）止清洗外溢，清洗後的廢水廢氣處理係統可使汙染物(廢氣、廢水（shuǐ）等)在受控的條件下，按設計出口排放，基本消除了對（duì）現場及操作人員的汙染。
TXVLOG糖心短视频网站潔高壓水電子級多晶矽還原爐鍾罩（zhào）清洗係統，其核心部件、元件和附件原裝進口保（bǎo）證了電子級（jí）多（duō）晶矽鍾（zhōng）罩（zhào）清洗（xǐ）係統性能的可靠，可以在一套係統實現多種型號鍾罩的清（qīng）洗烘幹。除此之外（wài），根（gēn）據還原爐底部法蘭的結構特殊設計升級後的清洗工作台，不僅（jǐn）可以滿足對內壁（bì）和視孔鏡的清洗（xǐ），同時也滿足了（le）底部法蘭的清洗。可實現對法蘭內邊緣的清洗，保證（zhèng）整個法蘭底部都被清洗液覆蓋，並清洗、吹（chuī）幹。
目前，TXVLOG糖心短视频网站潔在多晶矽還原爐清洗行業已（yǐ）擁有國內90%的用戶，為多晶矽行業提供了幾十套還原爐清（qīng）洗係統，如您有需（xū）求歡迎電話谘詢（xún），TXVLOG糖心短视频网站潔將竭誠為您服務。
由於多晶（jīng）矽純度會嚴重影響到（dào）單晶矽（guī）拉製環節，所以電子級多（duō）晶矽雜（zá）質含量（liàng）要求更（gèng）為苛刻，電子級多晶矽生產廠家在工（gōng）藝（yì）流程、設備維護（hù）、產品運輸等多（duō）方麵進行提（tí）升，以提高企業的競爭力度。而在電子級多（duō）晶矽改良西門子法（fǎ）生（shēng）產工藝中，還（hái）原爐是整個多晶矽生產係統的“心髒”部件（jiàn），也（yě）是影響實際產量最核心的工藝環節（jiē），生產出來的多晶矽質量的優劣取決於它，因（yīn）此還原爐鍾罩內壁的清（qīng）潔度直接影響最終產品的質量（liàng），同（tóng）時，作為多晶矽的生產電耗比重首位的熱沉積反應（yīng）器，其內壁的光潔可以有效降低還（hái）原電耗（hào），所以在電子（zǐ）級多晶矽生產（chǎn）過程中，多晶矽還原爐鍾罩內部清潔（jié）至關重（chóng）要。
一、電子級多晶矽還原爐鍾罩清洗（xǐ）要求
1、潔淨度（dù）要求
清洗過程中（zhōng）要確保潔淨度達到電子級別的標準，這通常意味著要徹底去（qù）除鍾罩表麵的所（suǒ）有塵埃、汙垢和（hé）任何（hé）可能對矽片產生負麵影響的雜質（zhì）。
2、避免化學汙染
清（qīng）洗過程中使用的化學（xué）品必須是高純度的，並且不得留下任（rèn）何殘留（liú）物。使用去離子水（shuǐ）（DI水）等高純度水源（yuán）是（shì）必要的，以避免引入任何額（é）外的（de）離子或雜質。
3、溫度（dù）控製
清洗過程中的溫度應（yīng）該（gāi）在適當的範圍（wéi）內，以（yǐ）確保清洗（xǐ）劑的有效性，並防止對設備產生不良影響。同時，溫度控製也有助於防止在清洗過程中產生的水汽對設備腐蝕。
4、機械（xiè）清洗
對鍾罩表麵的機械清洗應該是適用而徹底的，以在不傷害其內部表麵結構的情況下，去除（chú）附著在表麵的（de）任何顆粒或雜質。
5、避免靜電
電子級多晶矽（guī）生產對（duì）靜電敏感，在清洗過程中（zhōng）要（yào）注意避免靜電的產生。
6、實時監測和控（kòng）製
清（qīng）洗過程中要實時監測清洗效果，確保達（dá）到規定的（de）潔淨度標準。
7、設（shè）備保養
清洗設備本身也需要定期保養，以確保其（qí）正常運（yùn）行且不會引入額外（wài）的汙染。
8、符（fú）合行業標準
清洗過程應符合相關的行業標準和規範（fàn），以確保清洗的效果（guǒ）和可重複性（xìng）。
在進行電子級多晶矽還原爐鍾罩清洗（xǐ）時，以上要求都是（shì）為（wéi）了確保最終生產的矽片符（fú）合高純度和高質量的要求。這（zhè）些要求有助於避免因為鍾罩表麵殘留的汙染物而引入缺陷，從而影響電子級（jí）多晶矽矽片的生（shēng）產質量，應對於以上的清洗（xǐ）要求，普（pǔ）通的還原爐鍾罩清洗方式處理速度慢、清洗質量不均勻，且整（zhěng）體自動化程（chéng）度低；因（yīn）此需要一種高（gāo）效、快速、自動化程度高的多晶（jīng）矽還原爐鍾罩內壁清洗方式。
二、電子級多晶（jīng）矽（guī）還原爐（lú）鍾罩高效清洗方式
德（dé）高潔高（gāo）壓水電子級多晶矽還原爐鍾（zhōng）罩清洗係統，由高壓熱水（shuǐ）清洗係統、熱風淨化（huà）烘幹係統、控（kòng）製係統等組成，係統操（cāo）作簡單，自動化程度高（gāo），整個（gè）清洗工藝（yì）包含：還原爐鍾罩到（dào）位（wèi）→預（yù）清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水衝洗→淨化熱空（kōng）氣幹燥→常（cháng）溫（wēn）幹燥→鍾罩吊走，全程僅需人工輔助作業，解決（jué）傳統人工（gōng）清洗（xǐ）不安全、不環保、清洗效果差、自動化程度低、效率不高的缺陷。
采用PLC+觸摸屏柔性自動控製係統，能實現（xiàn）對還原爐鍾罩的自動清洗和烘（hōng）幹，清洗烘幹時間、溫（wēn）度、清洗、漂洗等工藝（yì）參數（shù）可以根據需要自行調整設定，同（tóng）時（shí）具有半自動或（huò）手動功能。一次吊裝在一個工作台上完成（chéng）全部清（qīng）洗、烘幹過程，可（kě）實現遠程對樓下設備的控製和主要參數監控。
全密（mì）閉式清洗烘幹係統，清洗（xǐ）時采用高壓水三維立體清洗技（jì）術（shù），以水力（lì）自驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒內部表麵的水（shuǐ）力掃射，實現（xiàn）內部無死角清洗，以水為清洗介質可有效避免（miǎn）靜電的（de）產生，清洗後旋轉和升降清洗吹（chuī）幹（gàn）執行機構，根據（jù）還原爐每個視孔鏡相對原點的相對位（wèi）置進行準確定位，可自動（dòng）切換不同清洗液及吹幹，通過控（kòng）製係統可對清洗、吹幹（gàn）時間等進行調整，清洗時隻需一（yī）鍵操作即可，操作簡單方便。
在整個還原爐的清洗過程中，清洗、幹燥中筒（tǒng）內形（xíng）成微負壓狀態（tài），防（fáng）止清洗外溢，清洗後的廢水廢氣處理係統可使汙染物(廢氣、廢水（shuǐ）等)在受控的條件下，按設計出口排放，基本消除了對（duì）現場及操作人員的汙染。
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